一個(gè)典型的勻膠過程包括滴膠、高速旋轉(zhuǎn)以及干燥(溶劑揮發(fā))幾個(gè)步驟。滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上，高速旋轉(zhuǎn)把光刻膠鋪展到基片上形成簿層，干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。兩種常用的滴膠方式是靜態(tài)滴膠和動態(tài)滴膠。靜態(tài)滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心，滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應(yīng)根據(jù)光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高或基片比較大，往往需要滴較多的膠，以保證在高速旋轉(zhuǎn)階段整個(gè)基片上都涂到膠。動態(tài)滴膠方式是在基片低速（通常在500轉(zhuǎn)/分左右）旋轉(zhuǎn)的同時(shí)進(jìn)行滴膠，“動態(tài)”的作用是讓光刻膠容易在基片上鋪展開，減少光刻膠的浪費(fèi)，采用動態(tài)滴膠不需要很多光刻膠就能潤濕（鋪展覆蓋）整個(gè)基片表面。尤其是當(dāng)光刻膠或基片本身潤濕性不好的情況下，動態(tài)滴膠尤其適用，不會產(chǎn)生針孔。滴膠之后，下一步是高速旋轉(zhuǎn)。使光刻膠層變薄達(dá)到最終要求的膜厚，這個(gè)階段的轉(zhuǎn)速一般在1500-6000轉(zhuǎn)/分，轉(zhuǎn)速的選定同樣要看光刻膠的性能（包括粘度，溶劑揮發(fā)速度，固體含量以及表面張力等）以及基片的大小?？焖傩D(zhuǎn)的時(shí)間可以從10秒到幾分鐘。  

勻膠的轉(zhuǎn)速以及勻膠時(shí)間往往能決定最終膠膜的厚度。一般來說，勻膠轉(zhuǎn)速快，時(shí)間長，膜厚就薄。影響勻膠過程的可變因素很多，這些因素在勻膠時(shí)往往相互抵銷并趨于平衡。所以最好給予勻膠過程以足夠的時(shí)間，讓諸多影響因素達(dá)到平衡。勻膠工藝中最重要的一個(gè)因素就是可重復(fù)性。微細(xì)的工藝參數(shù)變化會帶來薄膜特性巨大的差異，